Лабораторный стенд «Глубокое окисление» предназначен для изучения передового метода очистки природных и сточных вод от стойких органических загрязнений, не поддающихся биологической деструкции. Процесс основан на генерации гидроксильных радикалов (•ОН) в водной среде при совместном воздействии перекиси водорода (H₂O₂) и ультрафиолетового (УФ) излучения.
Основу установки составляет вертикальный прозрачный плёночный реактор, в центре которого размещена УФ-лампа. Смесь воды и перекиси водорода подаётся в реактор, где под действием УФ-излучения запускается реакция глубокого окисления. В процессе эксперимента непрерывно регистрируются расход потока и температура реакционной смеси, что позволяет контролировать кинетику и эффективность процесса.
Выполняемые лабораторные работы:
- Изучение принципа и механизмов процесса глубокого окисления (AOP — Advanced Oxidation Processes)
- Дозирование перекиси водорода и регулирование её концентрации в зависимости от состава сточной воды
- Исследование влияния интенсивности УФ-излучения и расхода реагентов на степень минерализации органических загрязнителей
- Непрерывный контроль параметров процесса: расхода, температуры и визуальная оценка прозрачности воды
- Оценка эффективности удаления труднобиоразлагаемых органических соединений
- Комментарии
Загрузка комментариев...